Labor Mikrofertigung

Das Labor Mikrofertigung ist ein Labor des Fachbereichs Ingenieurwissenschaften und hier im Bereich Feinwerktechnik angesiedelt. Mikrotechnische Fertigungsverfahren werden zukünftig weiter an Bedeutung gewinnen. Im Zuge einer fortschreitenden Miniaturisierung feinwerktechnischer Bauelemente und mechatronischer Baugruppen bilden Mikrotechnologien einen sich ständig ausweitenden Arbeitsschwerpunkt.

Das Labor Mikrofertigung hat seine Schwerpunkte in den folgenden Technologien:

• Dünnschichttechnologie
  
  
• Lasertechnologie
  
  
• Lithografie
  
  

Dünnschichttechnik

Damit stellt sie eine Basistechnologie dar für den Einsatz in der

• Mikromechanik
• Mikroelektronik und
• Optik

• Raster-Elektronenmikroskop und ein
• Atomic-Force-Microscope (AFM / Raster-Kraftmikroskop)

In dem Dünnschichttechnologiezentrum können alle gängigen PVD-Fertigungsverfahren durchgeführt werden. Hochvakuum bis 10 - 6 mbar Elektronenstrahlverdampfung DC- und RF-Sputtertechniken Reaktives Magnetronsputtern

Zur Vermeidung von Verunreinigungen auf den funktionellen Schichten wird im Mikrofertigungslabor unter Reinraumbedingungen gefertigt.

Für die elektrische Kontaktierung einzelner Mikrostrukturen wird im Labor ein Thermokompressions-Bonder eingesetzt, mit dem 25µm dünne Golddrähte aufgebondet werden können.

Lasertechnik

Mit Hilfe der Lasertechnologie können Mikroschnitte und -bohrungen Mikroschweißungen an unterschiedlichsten Bauteilen und Werkstoffen durchgeführt werden.

• Strahlführung mittels fester Optiken und
• NC-gesteuerter Verfahrtische erreicht.

Das Laserzentrum bietet weiterhin die Möglichkeit, einen CAM-Betrieb durchzuführen. In einem Arbeitsgang wird im Laserzentrum Konstruiert, kompiliert und gefertigt. Eingesetzt werden: ein Nd:YAG Festkörperlaser (Lasag KLS246) mit fester und Lichtleiteroptik das Programmiersystem Cagila ein Verfahrtisch mit 3 CNC gesteuerten Achsen und einer Drehachse

Lithografie

Die Strukturierung der funktionstragenden metallischen oder dielektrischen Schichten erfolgt üblicherweise mit Hilfe der Lithografie unter Einsatz von Masken.

Ausgangspunkt der optischen Lithografie ist eine dünne Beschichtung der Oberfläche mit einem Foto-Resist.

Die datentechnisch vergrößert erstellte Maske wird optisch auf den M = 1:1 verkleinert und auf die Fotoresistschicht projiziert. Auf diese Weise werden Im Labor für Mikrofertigung Strukturen bis zu 2µm auf dem Dünnschichtsubstrat erzeugt.